10.3969/j.issn.1004-4507.2009.04.003
微波等离子体刻蚀技术研究
以Coria1200M型干法刻蚀机的三种刻蚀模式为基础,分析了微波等离子体刻蚀技术的优缺点,并讨论了下电极结构对干法刻蚀形貌、一致性和重复性的影响.利用微波等离子体刻蚀技术与反应离子刻蚀技术相结合,实现了SiO2各向同性刻蚀,成功应用于质量控制和失效分析等环节.
高密度等离子体微波干法刻蚀失效分析
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TN305.7(半导体技术)
2009-05-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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