基于 SEM 纳米级电子束曝光机的快速束闸设计

摘要：

基于扫描电镜(SEM)的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求.在电子束曝光系统中,需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光.从安装位置、机械结构和驱动器等方面讨论快速柬闸的设计.

关键词：电子束曝光、束闸、扫描电子显微镜、图形发生器

所属期刊栏目：37

分类号：TN305.9(半导体技术)

在线出版日期：2009-01-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：10-13