10.3969/j.issn.1004-4507.2008.04.006
光学光刻技术的历史演变
简要回顾了光学光刻技术的发展历程,从IC技术节点微细化要求对光刻技术的挑战方面讨论了光学光刻技术的发展趋势及进入32 nm技术节点的可能性.
光学光刻、缩小步进光刻、步进扫描光刻、浸没式光刻、双重图形光刻
37
TN305.7(半导体技术)
2008-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
28-32
10.3969/j.issn.1004-4507.2008.04.006
光学光刻、缩小步进光刻、步进扫描光刻、浸没式光刻、双重图形光刻
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TN305.7(半导体技术)
2008-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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