改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统

摘要：

论述了第五世代双扫描平台浸波式扫描曝光机的性能和进展.表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现.浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的.为了保持这种缺陷水平的改进效果,需要在圆片应用中进行专门稳定的测量.特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜面良流线性是很重要的.

关键词：浸液式扫描曝光机、套刻和聚焦性能、缺陷改进、污染粒子控制

所属期刊栏目：37

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2008-05-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：13-19