道康宁与东京应用化学合作开发的新型硅晶注入式双层光阻获使用于记忆体晶片的制造/碳素石墨巨头西格里加速拓展亚洲新型材料市场

机标关键词：康宁、东京、应用化学、合作开发、注入式、记忆、晶片、制造、碳素石墨、亚洲

所属期刊栏目：36

分类号：TU8;TN9

在线出版日期：2008-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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