MOCVD工艺中源材料用量计算方法

摘要：

介绍了MO源和气态源实际用量的计算原理与方法,并在中国电子科技集团公司第四十八研究所研制的MOCVD设备中应用;提出了提高MO源利用率、降低工艺成本的三项措施.

关键词：MOCVD、斜率、恒温浴槽、MO源、利用率、反应器

所属期刊栏目：36

分类号：TN304.02(半导体技术)

资助基金：电子信息产业发展基金

在线出版日期：2007-12-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：56-60