半导体光刻设备、材料的新动向

摘要：

@@ 1 曝光设备当前,在半导体器件生产中,用于65 nm制程的器件已进入量产,而用于45 nm制程也已成熟,即将进入量产期.

机标关键词：半导体器件生产、光刻设备、曝光设备

所属期刊栏目：36

分类号：TN7;TN3

在线出版日期：2007-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：5-7