谈300 mm晶圆厂洁净室光刻区域环境中NH3和SO2的控制

摘要：

在半导体业中,对生产作业环境要求极为严格,其中对AMC(Airborne Molecular Contamination)有更严格的控制要求.SO2和NH3属于AMC中的2种,即MA(分子酸)和MB(分子碱).主要讨论洁净室中NH3和SO2的含量对晶圆和光罩的影响,以及采取各种有效措施对其进行控制,满足先进制程对于产品生产的超高空气品质要求.

关键词：洁净室、光刻、喷淋去离子水、新风入口、去离子水电导值、化学过滤器

所属期刊栏目：35

分类号：TN30(半导体技术)

在线出版日期：2006-12-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：19-23