期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2006.11.004

超薄化芯片

引用
芯片的超薄化发展,正在逐步整合半导体材料加工设备及其相应工艺.简要概述了芯片超薄化发展之动态,并以超薄芯片的减薄加工为中心,综合研究了影响超薄芯片机械特性、表面质量的主要因素,讨论了超薄晶圆片的最新加工技术.

超薄芯片、损伤层、粗糙度、总厚度误差(TTV)、芯片强度崩边、背面减薄、延性域

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TN30(半导体技术)

2006-12-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

13-18

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

35

2006,35(11)

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