10.3969/j.issn.1004-4507.2006.11.004
超薄化芯片
芯片的超薄化发展,正在逐步整合半导体材料加工设备及其相应工艺.简要概述了芯片超薄化发展之动态,并以超薄芯片的减薄加工为中心,综合研究了影响超薄芯片机械特性、表面质量的主要因素,讨论了超薄晶圆片的最新加工技术.
超薄芯片、损伤层、粗糙度、总厚度误差(TTV)、芯片强度崩边、背面减薄、延性域
35
TN30(半导体技术)
2006-12-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
13-18
10.3969/j.issn.1004-4507.2006.11.004
超薄芯片、损伤层、粗糙度、总厚度误差(TTV)、芯片强度崩边、背面减薄、延性域
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TN30(半导体技术)
2006-12-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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