硅片调焦调平测量系统测试平台

摘要：

硅片调焦调平测量系统测试平台用于对光刻机硅片调焦调平测量系统的性能进行检测.该平台模拟硅片调焦调平测量系统在光刻机中的测量对象的运动和工作环境,由三自由度运动台吸附硅片模拟光刻机工件台的垂向运动,采用比较激光干涉仪和硅片调焦调平测量系统同时对硅片测量的结果作为其性能的评估依据.该平台测量精确可靠,可以用于精度、分辨率和重复性等性能指标的检测.

关键词：调焦调平、光刻机、激光干涉仪

所属期刊栏目：35

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2006-11-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：53-56,60