LPCVD设备的高精度串级温度控制系统

摘要：

在大部分半导体工艺中,温度都是最重要的工艺参数之一,炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响.主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统,该系统结构简单,控制效果良好,温度稳定度≤±0.5℃/24h.

关键词：LPCVD、串级控制、温度控制

所属期刊栏目：35

分类号：TN304.055(半导体技术)

在线出版日期：2006-05-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38