光刻、OPC与DFM

摘要：

讨论了90/65 nm芯片设计采用可制造性设计的必要性和优势.介绍了以RET/OPC为核心的可制造性设计.

关键词：芯片设计、光刻、光学邻近效应校正、可制造性设计、分辨率增强技术

所属期刊栏目：35

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2006-05-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：18-22