193nm浸没式光刻技术发展现状及今后难点

摘要：

@@ 2002年之后,浸没式技术迅速成为光刻技术中的新宠.因为此种技术的原理清晰及配合现有的光刻技术变动不大,获得了人们的极大赞赏.

机标关键词：浸没式光刻技术、技术变动、原理

所属期刊栏目：35

分类号：TN7(基本电子电路)

在线出版日期：2006-05-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：1-2