157 nm光刻技术的进展

摘要：

概述了作为下一代光刻技术之一的157 nm F2准分子激光光刻技术的进展及各公司157 nm曝光设备的开发现状.介绍了157nm光刻中各种制约因素,如CaF2材料的双折射现象、真空环境的排气及污染控制、保护薄膜的选择、折反射光学系统的选择与设计及新型抗蚀剂的开发等问题随着时间的推进已基本得到解决.最后讨论了15 7 nm光刻技术在45 nm及以下节点器件图形曝光引入的可能性和采用浸液式157 nm光刻进入32 nm技术节点器件图形曝光的潜力.

关键词：157nm光刻、氟化钙材料、局部反射光斑、双折射、折反射光路、保护薄膜、污染控制、浸液式光刻

所属期刊栏目：36

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2006-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：13-17,52