曝光机双玻璃晒架及其真空系统的设计

摘要：

曝光机是图形转移中的重要设备.传统的迈拉晒架存在着需要赶气、效率低等缺点,已不能满足现代生产的需要.现今双玻璃晒架已在国外中、高档曝光机上普遍采用,但在国内各厂商还不具备生产能力.设计了散射光曝光机的双玻璃晒架系统,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题,在实验基础上得出了当膨胀密封圈气压为0.03 MPa,腔体真空度和底片吸附分别为40kPa和80kPa时,该晒架系统的真空效果较好.

关键词：曝光机、图形转移、双玻璃晒架、真空度

所属期刊栏目：35

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2006-03-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：52-55