强流氧离子注入机注入均匀性分析及提高

摘要：

对强流氧离子注入机的注入靶室进行分析探讨,对影响均匀性指标的靶盘结构、束的形状和束扫描注入方式进行研究,结合主体硬件,增加晶片自旋装置和采用新的扫描方式,来提高注入均匀性指标.

关键词：注入机、离子束、均匀性、变速扫描、SOI

所属期刊栏目：34

分类号：TN305.3(半导体技术)

在线出版日期：2005-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：48-52,59