IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究

摘要：

针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法.

关键词：光刻对准、工艺层、集成电路、光刻工艺、隔离技术

所属期刊栏目：34

分类号：TM305.7(电机)

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：37-41