纳米压印光刻模版制作技术

摘要：

在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术.纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中.同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)和其他纳米结构的图形复制.纳米压印光刻技术主要包括热压印、紫外固化压印和微接触法压印.介绍了在这3种纳米压印光刻技术中,压印模版制作的制作工艺和模版表面的防粘连处理,并且讨论3种压印方法适用的不同领域.

关键词：纳米压印、模版制作、防粘连处理

所属期刊栏目：34

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划G200036504;国家自然科学基金60236010

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：26-32