X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究

摘要：

作为微细加工技术之一的高分辨率光刻技术--同步辐射X射线光刻(XRL)可应用于100nm及100nm节点以下分辨率光刻,高精度对准技术对XRL至关重要,直接影响到后续器件的生产质量.目前国内的XRL对准系统主要采用CCD相机和显微物镜采集图像,经过计算机图像处理程序进行自动对准;图像边缘分辨是图像处理部分的关键,直接决定了对准精度.针对3种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的研究,并且初步设计了几种对准标记.

关键词：X射线光刻、对准系统、拉普拉斯算子、对准标记

所属期刊栏目：34

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60276019,60236010

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：22-25,32