光刻设备市场与技术现状

摘要：

@@ 由于半导体制造工艺的快速推进,工艺节点已进入90nm的时代承担90nm工序的是波长193nm的ArF曝光设备.2003年的ArF曝光设备供货数量约为75台.虽然数量比ArF及i线半导体曝光设备要少,但却在稳步增长.

机标关键词：光刻设备、市场、曝光设备、半导体制造工艺、工艺节点、数量比、增长、时代、供货、工序、波长

所属期刊栏目：34

分类号：TN3;TN1

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：3-6