无掩模光刻技术的最新进展

摘要：

@@ 据VLSI的报道,尽管浸入式光刻技术似乎为全球半导体工艺路线图又打开一扇明亮的窗.

机标关键词：浸入式光刻技术、半导体工艺、路线图、明亮

所属期刊栏目：34

分类号：TN3;TS9

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：1-2