193nm光刻技术延伸方法

摘要：

介绍了提高193 nm光刻分辨力的方法,如浸入式光刻技术、相位移技术等.并介绍了193 nm浸入式光刻机的优点和前景.

关键词：193 nm光刻机、浸入式光刻机、光刻分辨力、相位移

所属期刊栏目：33

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-12-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：14-16