下一代光刻技术的设备

摘要：

下一代光刻技术是指≤32 nm工艺节点的光刻技术.介绍了下一代光刻技术与设备,包括X射线光刻技术、极紫外线光刻技术和纳米压印光刻技术等.

关键词：下一代光刻技术、X射线光刻技术、极紫外线光刻技术、纳米压印光刻技术

所属期刊栏目：33

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-12-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38