低温激光退火多晶硅薄膜的光学常数研究

摘要：

用分光反射光谱(SR)和分光椭偏光谱(SE)来分析低温激光退火多晶硅薄膜的光学特性.利用多层光学和Braggeman有效介质近似模型(B-EMA),对薄膜光学常数和结构参数(膜厚度,表面粗糙度和非均匀性)的退火功率依存关系进行解析.解析结果表明,有一个临界退火功率存在.退火达到这个功率时,多晶硅薄膜的光学常数非常接近单晶硅.由于受增大晶粒尺寸影响,在这个功率时,薄膜表面粗糙度和非均匀性也显示了一峰值.在整个退火区域,膜厚度有大约8%变化.

关键词：分光反射光谱、分光椭偏光谱、低温激光退火、光学参数

所属期刊栏目：33

分类号：TN451(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2004-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：20-25