离子注入技术的发展及其应用

摘要：

简述了离子注入技术的发展趋势及典型应用,并简要分析了该领域的技术发展方向.

关键词：离子注入、发展趋势、典型应用

所属期刊栏目：33

分类号：TN30.5(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：64-66,75