封闭式匀胶显影设备的结构与技术优势

摘要：

介绍了KINGSEMI封闭式晶片处理系统.它是满足深亚微米光刻工艺要求的Cluster结构.有占地小,采用空气过滤(MFC)及气流导向(FFU)等控制系统,对局部环境进行温湿度控制等优点;智能型化学品自动供应站精确地控制光刻胶、显影液等化学试剂的用量.片盒站机械手和工艺单元机器人联合传送晶片,准确、安全、快捷;备有容纳4个片架盒的片盒站,可同时处理两种不同尺寸的晶片.嵌入式控制软件,Windows NT操作系统,构成良好的人机界面,操作方便.

关键词：封闭式、空气过滤系统、气流导向系统、嵌入式、片盒站、化学品供应站

所属期刊栏目：33

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：70-73