适用于沉积工艺的真空技术

摘要：

半导体生产中的薄膜沉积工艺通常对真空泵的要求很严格.在该工艺中高故障和停机现象较为普遍.iH真空泵是特别为应付恶劣的薄膜工艺环境所设计.阐述了iH系列在干泵在LPCVK氮化硅工艺应用中的成功表现.

关键词：沉积、工艺、真空技术、干泵

所属期刊栏目：33

分类号：TN304.55(半导体技术)

在线出版日期：2004-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：15-17