期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2004.03.008

光学光刻技术向纳米制造挺进

引用
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景.

光学光刻、光学邻近效应校正、下一代光刻、纳米制造、优势与前景

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TN350.7(半导体技术)

2004-04-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

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2004,33(3)

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