化学机械抛光后板刷撩洗清洗

摘要：

板刷擦洗是一种在化学机械抛光后清洗中常用的方法.它可以非常有效地把研磨剂颗粒从已抛光的晶圆表面去除掉.在氧化硅化学机械抛光的清洗工艺中,去离子水(或者稀释的氢氧化氨)是刷洗过程中常用的化学品起到的作用及刷洗的机械力对去除氧化硅研磨剂颗粒时所起的作用.

关键词：化学机械抛光、板刷擦洗、晶圆表面

所属期刊栏目：33

分类号：TN305.47(半导体技术)

在线出版日期：2004-04-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：66-69,86