浸没式光刻的优势和可行性

摘要：

浸没式光刻通过高折射率的液体充入透镜底部和片子之间的空间使光学系统的数值孔径具有显著的优势.在193 nm曝光系统中,水(折射率为1.44)被选作最佳的浸入液体.通过成像模拟,现已证明ArF(193nm)浸没式光刻(M=1.05～1.23)与F2(157 nm)干法(NA=0.85～0.93)光刻具有几乎相同的成像性能.结合流体力学和热模拟结果,讨论了ArF浸没式曝光设备的优势和可行性.

关键词：193 nm光刻、浸没透镜曝光、折射率、数值孔径

所属期刊栏目：33

分类号：TN350.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-04-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：10-14,18