光学光刻的波前工程

摘要：

介绍了国内研究光学光刻波前工程的一些成果,如新型移相掩模、投影光刻的邻近效应和掩模加工的邻近效应的组合模拟等.

关键词：光学光刻、波前工程、移相掩模、光学邻近效应校正

所属期刊栏目：32

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2003-12-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：50-52