离子法入机Ⅶ Sta平台向掺杂工艺的无缝可变换性

摘要：

离子注入机ⅦSta平台对≤130 nm尺寸CMOS工艺在整个能量和剂理范围提供单片注入.这些注入机的特征是硬件和设计原理通用,并包含离子束注入角控制、剂量测定和终端站设计.这种方法对重叠剂量范围能使工艺可完全互换,并对引起制造所有权成本(COO)降低提供了最大的灵活性.一个完整工艺的透彻性需要剂量形貌特征精确匹配,并很好地说明这一能力、晕圈效应、VT和延展注入.此外,也证实了ⅦSta平台的单片设计消除了缺陷来源,确保了无风险工艺互换.

关键词：离子注入机、角控制、缺陷控制、工艺可互换性

所属期刊栏目：32

分类号：TN606(电子元件、组件)

在线出版日期：2003-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：73-77