Trias(R)SPA:高速游离基氧氮化(Radical Oxidation ＆Nitridation)对应的等离子处理设备

摘要：

@@ Tokyo Electron Ltd.(东京都港区,社长东哲郎)宣布开始销售与200mm/300mm晶片相对应的能进行游离基氧氮化的等离子体处理设备”Trias SPA”.

机标关键词：游离基、氧氮化、等离子体、处理设备、东京都、销售、晶片、港区

所属期刊栏目：32

分类号：TN605(电子元件、组件)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：62-63