双面深度光刻机控制系统设计

摘要：

介绍了当今世界光刻技术的发展趋势,重点阐述了双面深度光刻机控制系统的功能、组成及各组成部分的软、硬件设计,最后简要总结了控制系统的特点.

关键词：双面光刻、步进电机、电磁阀、检测、标记

所属期刊栏目：32

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：48-50