10.3969/j.issn.1004-4507.2003.01.007
CMP系统技术与市场
概述了CMP系统技术的发展历史、发展趋势以及在IC生产中的重要性,介绍了国外CMP设备主要制造厂家的设备型号和性能及CMP设备市场分布和需求,阐述了CMP系统技术的基础研究、关键技术和国内研究概况.
化学机械抛光、化学机械平坦化、设备关键技术、市场前景
32
TN305(半导体技术)
2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
17-24
10.3969/j.issn.1004-4507.2003.01.007
化学机械抛光、化学机械平坦化、设备关键技术、市场前景
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TN305(半导体技术)
2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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