0.1 μm线宽主流光刻设备——193 nm(ArF)准分子激光光刻

摘要：

阐述了可实现0.1 μm线宽器件加工的几种候选光刻技术,对193 nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述,指出其在0.1 μm技术段的重要作用,并提出了研制193 nm(ArF)光刻设备的一些设想.

关键词：光学光刻、光刻设备、193 nm光刻

所属期刊栏目：31

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：27-31