KrF光刻:使命未尽

摘要：

@@ 由于芯片制造者竭力与摩尔定律保持一致,半导体产业便无疑成为娴熟的光学光刻所拒绝放弃任何可能的机会.光刻设备不断地突破其先前所认定的极限,达到越来越新的前沿.目前,采用248 nm波长的KrF激光光源的最高生产水平的片子步进机,常规复印的特征尺寸已达180 nm.

机标关键词：光学光刻、特征尺寸、生产水平、摩尔定律、激光光源、光刻设备、制造者、步进机、半导体、芯片、前沿、复印、产业、波长

所属期刊栏目：30

分类号：TN3;TN4

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：49-52