混合匹配：必然的选择

摘要：

@@5年前，365nm步进重复光刻设备的能力，容易满足200nm套刻要求。用同一类设备曝光连续的图层仅有很小的差异。一组相同带宽和型号之间以最佳透镜匹配的步进机可适应全部图层的曝光。引入远紫外步进扫描曝光机后，由于最初只是用于2～3层关键层曝光，并不至于影响到生产线总的生产效率。而现今，设计规则缩小到0.18μm，远紫外步进扫描机可以以接近50nm的套刻要求用于全部关键图层的曝光。在一个典型的器件中，1/3的图层是真正的关键层，1/3是中等关键层，还有1/3属非关键层。

机标关键词：混合匹配、关键层、曝光机、图层、步进扫描、远紫外、套刻、生产效率、设计规则、光刻设备、生产线、扫描机、可适应、步进机、透镜、器件、能力、带宽

所属期刊栏目：30

分类号：TN3;TP3

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：47-53