步进光刻机中的成像线宽控制

摘要：

线宽控制是光刻质量的关键。以0.8～1.0μm IC电路生产为依据，讨论光刻机特性影响成像线宽的因素以及使用中的最佳调整。

关键词：步进光刻机、线宽控制、线宽误差、因素、调整

所属期刊栏目：30

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：27-33