光学光刻技术现状及发展趋势

摘要：

综述了光学光刻目前的主流技术—248nm曝光技术现状，介绍了折射式透镜和反射折射式透镜结构及性能。结合193nm技术的开发，比较了2种结构的优势。最后给出了光刻设备的市场概况并讨论了光学光刻技术的发展趋势。

关键词：光学光刻、248nm曝光、193nm曝光、折射系统、反射折射系统、设备市场

所属期刊栏目：30

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：1-9