双面对准曝光中关键技术研究

摘要：

对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究,并通过多年工作实践经验,对对准工作台的精度分析作了论述.

关键词：双面对准、曝光系统、关键技术、对准工作台、精度分析

所属期刊栏目：29

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：13-18,29