基于IPD技术的LC滤波器制备工艺

摘要：

介质层制备工艺是基于IPD技术的LC滤波器制备的关键工艺.从介质层的制备流程入手,研究了影响PI介质层质量的匀胶、曝光、固化三个关键工艺因素,确定了LC滤波器中介质层的制备工艺参数,实现了厚度8 μm、厚度均匀性优于5%、最小互连孔径25 μm的介质层制备.按此工艺参数加工,得到LC滤波器样件,经性能测试,所制备LC滤波器的电学性能满足设计指标要求.

关键词：IPD技术、LC滤波器、介质层

所属期刊栏目：45

分类号：TN605(电子元件、组件)

在线出版日期：2024-01-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：6-9,38