期刊专题

10.14176/j.issn.1001-3474.2023.03.008

MEMS器件级高真空封装技术

引用
在多数微机电系统(MEMS)器件级封装工艺中,需要采用高气密真空环境进行封装.在设备端实现该工艺至今依然是一项具有挑战性的技术难题,存在多项需要突破的关键技术,如真空转运、真空视觉对位、真空封盖和焊接等.因此提出一种适配工艺步骤的全自动高真空封装系统解决方案,并对其主要功能、工作原理、存在问题及解决方案进行详细论述.

真空、封装、视觉对位、芯片

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TN405(微电子学、集成电路(IC))

2023-07-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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28-31

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电子工艺技术

1001-3474

14-1136/TN

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2023,44(3)

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