期刊专题

10.14176/j.issn.1001-3474.2018.06.010

酸性蚀刻废液中回收高纯氧化铜

引用
研究了酸性蚀刻废液回收高纯电镀级氧化铜粉的方法,通过XRD和XPS等测试分析发现,有机物是影响光亮剂消耗和EVF电镀填孔凹陷大的原因,并对有机物进行了有效去除.最终回收所得氧化铜粉的质量分数高达99.0%,杂质含量低,活性高,完全符合电镀级氧化铜粉的要求.

酸性蚀刻液、回收、氧化铜、光亮剂

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TN41(微电子学、集成电路(IC))

2019-01-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

346-348,351

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电子工艺技术

1001-3474

14-1136/TN

39

2018,39(6)

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