硅单晶抛光片边缘亮线研究

摘要：

随着集成电路用晶圆向大尺寸化方向发展，国内10～15 cm硅抛光片市场竞争日益激烈，外延及器件厂家对抛光片的表面质量和可利用率要求越来越高。边缘亮线是一种存在于硅片抛光面边缘的腐蚀缺陷，对抛光片的成品率及后续工艺质量有重要影响。通过对硅片边缘表面形貌进行微观分析，揭示了“边缘亮线”产生的机理，分别研究了抛光工艺条件和倒角工艺条件对边缘缺陷的影响，通过优化抛光工艺条件，消除了抛光片表面“边缘亮线”缺陷。

关键词：边缘亮线、表面形貌、成品率、抛光片

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：天津市青年基金项目项目编号12JCQNJC01700。

在线出版日期：2014-09-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：298-302