基于ITO玻璃基板的涂胶工艺研究

摘要：

光刻胶涂布的厚度和均匀性直接影响细微光刻电路图形的精度,对电子产品的集成度和合格率有着极为重要的影响.基于ITO玻璃基板涂胶工艺实验,研究了影响涂胶厚度和涂胶均匀性的各种因素,包括光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量和涂胶速度等.针对几种常见的典型涂胶缺陷进行了研究分析,并制定了相应的解决对策.

关键词：ITO玻璃基板、光刻胶、涂胶厚度、涂胶均匀性、涂胶缺陷

所属期刊栏目：31

分类号：TN873(无线电设备、电信设备)

在线出版日期：2010-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：237-240