低温纳米压印技术制备微纳图案的研究

摘要：

纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上,然后用印章压印使其复制印章图案.采用低玻璃化温度的SU-82000.1和Hybrane胶体转移图案,能够在低温、甚至室温下实现微纳图案的转移.采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底上制备图案,从而避免了传统工艺中效率较慢的电子束加工和取消了反应离子刻蚀步骤;并且采用FIB方法可同时在衬底上制备微米、纳米尺度的图案.实验结果表明用FIB方法可以得到比较均匀致密的微纳米图案印章,经过低温纳米压印后可成功地实现微纳图案的复制.

关键词：纳米压印、低温、聚焦离子束、纳米印章、微纳图案、图案复制

所属期刊栏目：29

分类号：TP271(自动化技术及设备)

资助基金：国家863高新技术项目863MEMS重大专项项目编号:2002AA404150.上海市科委上海市科委项目0352nm010和02dz11020

在线出版日期：2009-02-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：314-316,337