蓝宝石衬底片的抛光研究

摘要：

本研究对SiO2磨料抛光蓝宝石衬底片进行了研究,结果表明,采用大粒径、高浓度的SiO2磨料抛光可以获得良好的表面状态和较高的去除速率.抛光的适宜的温度及pH值条件为:T=30℃;13.0＞pH≥9.0.并且在抛光时应加入适量添加剂,方可获得较为理想的表面状态和较高的去除速率.实验同样证明,这种低成本、高质量的抛光除可以应用在蓝宝石的抛光以外,还可以应用在其它一些硬质材料的抛光工艺中.

关键词：蓝宝石、抛光、机理、硅溶胶

所属期刊栏目：26

分类号：TN30(半导体技术)

在线出版日期：2005-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：228-231