10.3969/j.issn.1001-3474.2002.03.003
化学镀锡层可焊性研究
主要研究了氯化物法化学镀锡过程中次亚磷酸钠浓度、氯化亚锡浓度、温度、pH值、镀层厚度及热处理等因素对高锡镀层可焊性的影响,并用镀片所需的最短润湿时间测试了镀层的可焊性.实验结果表明:在最佳工艺条件下,获得的高锡镀层可焊性能好,易焊接,在电子工业等领域中应用广泛.
化学镀锡层、可焊性、印制电路板
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TQ153.1+3
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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98-100