10.3969/j.issn.1001-3474.2001.02.008
薄膜金属化LTCC基板的薄膜阻碍层对共晶焊的影响
讨论了LTCC基板薄膜金属化技术中,有效阻碍层的选择对基板共晶焊的影响,实验结果表明,Ti/Ni是一种高可靠性的阻碍层,而且Ti/Ni/Au也是一种较理想的LTCC基板薄膜金属化结构。
LTCC基板、薄膜金属化、共晶焊、阻碍层、剪切强度
22
TN44(微电子学、集成电路(IC))
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
71-73
10.3969/j.issn.1001-3474.2001.02.008
LTCC基板、薄膜金属化、共晶焊、阻碍层、剪切强度
22
TN44(微电子学、集成电路(IC))
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
71-73
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn